Die EDER SCHIESCHKE & PARTNER mbB, Patentanwälte mit Sitz in München ist unter PR 1383 im Partnerschaftsregister des Amtsgerichts München eingetragen. Zur Vertretung berechtigt sind Michael Dr. Barth, Christian Eder, Ralf Mischung und 1 weitere; eine Prokura ist nicht eingetragen. Bisher sind zwei Eintragungen erfolgt, die letzte am 19. Dezember 2019.
Letzte Registeränderungen
Zwei Eintragungen seit der Gründung, die letzte am 19.12.2019.
- Vertreter eingetragenRalf MischungPR 1383
- Firma eingetragenPR 1383
- Sitz eingetragenPR 1383
- Vertreter eingetragenChristian EderPR 1383
- Vertreter eingetragenThomas Dr. EderPR 1383
Stammdaten
Aus dem Handelsregister des Amtsgerichts München.
- Registergericht
- Amtsgericht München
- Registernummer
- PR 1383
- Rechtsform
- Partnerschaft
- Tag der letzten Eintragung
- 19.12.20192 Eintragungen bisher
- Gegenstand
- Ausübung des Berufs eines Patentanwalts eines jeden Partners im Rahmen einer gemeinsamen Sozietät am Sitz der Partnerschaft sowie Vornahme aller dazu erforderlichen Maßnahmen und…
- Branchenklassifikation
- WZ-Code, NACE, Peer-GruppeExplorerFreischalten
Vertretung
Vier Partner, keine Prokura eingetragen. Stand der letzten Eintragung: 19.12.2019.
Kontrollstruktur
Für die Rechtsform Partnerschaft führt das Handelsregister keine Gesellschafterliste.
Sanktionsstatus
Abgleich der Gesellschaft gegen sechs Sanktions- und PEP-Listen.
Ergebnis gesperrt
Der Abgleich der Gesellschaft gegen 6 Listen ist mit Explorer abrufbar.
Freigeschaltet siehst du je Liste Treffer oder kein Treffer und den Zeitpunkt des Abgleichs. Das Ergebnis ersetzt keine eigene Sorgfaltsprüfung nach GwG.
Dokumente
Fünf Dokumente aus Handelsregister und Unternehmensregister. Eines davon ist frei abrufbar, drei liegen für diese Gesellschaft nicht vor.
Unternehmensgegenstand
Wortlaut aus dem Registerauszug.
Ausübung des Berufs eines Patentanwalts eines jeden Partners im Rahmen einer gemeinsamen Sozietät am Sitz der Partnerschaft sowie Vornahme aller dazu erforderlichen Maßnahmen und Rechtsgeschäfte.
Kontakt & Präsenz
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